按照有機添加劑的還原理論，添加劑在陰極上被還原對鍍層起光亮作用，同時，被還原的添加劑也就成了鍍液中的雜質。用活性炭處理只能除去一部分有機雜質，一些較大分子的有機物不易被活性炭吸附，當不易被活性炭吸附的有機雜質積累過多時，需對鍍液進行大處理。用氧化法處理，將較大的有機物分子氧化成小分子，然后用活性炭吸附，才能滿足電鍍鍍鎳工藝的要求。

　　處理鍍鎳溶液中的有機雜質，一般選用高錳酸鉀或雙氧水作氧化劑。實驗表明，高錳酸鉀被還原成Mn和二氧化錳，二氧化錳沉淀能過濾出去，Mn留在鍍液中，鍍鎳層容易長毛刺。雙氧水的氧化能力較弱，對有機雜質的氧化不夠徹底，而且，過量的雙氧水不易分解。過硫酸鈉的氧化性較強，還原產物硫酸根對鍍鎳溶液無影響。向鍍鎳溶液中加2．5g／L過硫酸鈉，在55—60℃保溫2～3h。用氫氧化鈉溶液調節pH=4．3—4．7，鐵離子完全生成氫氧化鐵沉淀，加活性炭吸附，6h后過濾。用霍爾槽試驗確定光亮劑的補加量，向鍍槽中補加光亮劑。