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滾鍍鍍鎳工藝

發布日期:2015-09-11

  滾鍍光亮鎳的特點是,鍍槽的電壓較高,如果降低鍍液中硫酸鎳和氯化鎳的濃度,鍍液的電阻增大,槽電壓升高,鍍液的溫度將隨之升高而超出工藝范圍,最后導致鍍液性能惡化,使鍍層質量變差,且電鍍廠滾鍍鍍鎳成本增高。為了提高低濃度鍍鎳溶液的導電性,一般需要向鍍液中添加氯化鈉、硫酸鈉和硫酸鎂等導電鹽,這些導電鹽的加入,既可保證產品的電鍍質量,又可降低鍍鎳成本。

  鉀鹽比鈉鹽和鎂鹽具有更好的導電性,為了更有效地提高鍍鎳溶液的性能,寧波宏順電子電鍍廠研制了以硫酸鉀為導電鹽的低濃度滾鍍光亮鎳工藝。

以硫酸鉀為導電鹽的低濃度滾鍍鍍鎳液
六水硫酸鎳120~150g/L
六水氯化鎳45~50g/L
硫酸鉀50~70g/L
硼酸45~50g/L
pH4.0~4.4
溫度50~55℃
槽壓10~12V

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