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復(fù)雜件滾鍍光亮銅錫工藝的操作條件

發(fā)布日期:2015-09-11

  1.pH

  宜控制在10.5~11.5。低時(shí)用片堿調(diào)高,高時(shí)用稀鹽酸調(diào)低。pH太高或太低時(shí),鍍層不太光亮,有發(fā)紅和發(fā)朦的可能。

  2.溫度

  控制在45~55°C,最佳值為47~52°C。溫度太低時(shí),電流較低,且陰極發(fā)黑(即使其他條件均正常);溫度太高時(shí),操作環(huán)境惡化,氰化鈉損失大。

  3.電流密度

  復(fù)雜件滾鍍光亮銅錫工藝針對(duì)復(fù)雜件而定,故電流較大。對(duì)于450L鍍槽而言,每桶若鍍20~30kg產(chǎn)品,則需電流300~350A。

  4.陽(yáng)極

  通訊接觸件的陽(yáng)極電解銅板以掛滿為好。

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